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Thickness analysis for thin-film by glazing exit X-ray fluorescence with synchrotron radiation source 期刊论文
High Energy Physics and Nuclear Physics-Chinese Edition, 2005, 卷号: 29, 期号: 11, 页码: 1104-1106
作者:  Gong Y.;  Chen B.;  Ni Q. L.;  Cui M. Q.;  Zhao Y. D.;  Wu Z. H.
caj(178Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：467/94  |  提交时间：2012/10/21