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Illumination uniformity improvement in digital micromirror device based scanning photolithography system 期刊论文
Optics Express, 2018, 卷号: 26, 期号: 14, 页码: 18597-18607
作者:  Xiong, Z.;  Liu, H.;  Chen, R. H.;  Xu, J.;  Li, Q. K.;  Li, J. H.;  Zhang, W. J.
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maskless lithography  dmd  fabrication  elements  Optics  
Transverse modal control of wide-stripe high power semiconductor lasers using sampled grating 期刊论文
Optics Express, 2018, 卷号: 26, 期号: 9, 页码: 11171-11180
作者:  Li, L. Y.;  Shi, Y. C.;  Zhao, Y.;  Zhang, Y. S.;  Wang, W. X.;  Wu, Y. T.;  Zhou, Y. L.;  Zhang, X.;  Chen, X. F.
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equivalent-chirp technology  bragg reflection  Optics