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Thermal modification of a-SiC : H films deposited by plasma enhanced chemical vapour deposition from CH4+SiH4 mixtures 期刊论文
Chinese Physics Letters, 2001, 卷号: 18, 期号: 1, 页码: 117-119
作者:  Liu Y. C.;  Wang N. H.;  Liu Y. X.;  Shen D. Z.;  Fan X. W.;  Lee K. S.
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