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Effects of interfacial interaction potential on the sublimation rates of TNT films on a silica surface examined by QCM and AFM techniques 期刊论文
Surface Science, 2003, 卷号: 530, 期号: 1—2, 页码: L293-L296
作者:  Mu R.;  Ueda A.;  Liu Y. C.;  Wu M.;  Henderson D. O.;  Lareau R. T.;  Chamberlain R. T.
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