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Elimination of the field-dependent aberrations of the JWST-like space telescopes in the multi-field fine-phasing process 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 10
作者:  Ju, G. H.;  C. X. Yan and Z. Y. Gu
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Low-stress and high-reflectance Mo/Si multilayers for extreme ultraviolet lithography by magnetron sputtering deposition with bias assistance 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 26
作者:  Yu, B.;  C. S. Jin;  S. Yao;  C. Li;  Y. Liu;  F. Zhou;  B. Y. Guo;  H. Wang;  Y. Xie and L. P. Wang
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Small-size, high-resolution angular displacement measurement technology based on an imaging detector 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 3
作者:  Yu, H.;  Q. H. Wan;  X. R. Lu;  Y. C. Du and S. W. Yang
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