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坩埚下降法生长CaF_2晶体中热传导率对界面形状的影响 期刊论文
人工晶体学报, 1991, 期号: Z1, 页码: 254
作者:  吕志新;  崔凤柱
caj(40Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：393/70  |  提交时间：2013/03/11
坩埚下降法生长:7363  界面形状:4167  热传导率:3518  Caf_2:3392  光学均匀性:1196  晶体材料:919  透过率:859  中国科学院:753  暗视场:697  干涉图:675