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阳极氧化条件对多孔硅冷阴极场发射特性的影响 期刊论文
液晶与显示, 2000, 期号: 04, 页码: 273-277
作者:  丁邦建;  王维彪
caj(132Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：406/49  |  提交时间：2013/03/11
阳极氧化  场发射  多孔硅冷阴极  
玻璃碳表面氧化行为 期刊论文
东北师大学报(自然科学版), 2000, 期号: 04, 页码: 37-40
作者:  王君林
caj(71Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：297/37  |  提交时间：2013/03/11
玻璃碳  氧化  次表层  应力  
In situ Fourier transform P-polarized infrared reflection absorption spectroscopic investigation of an interface properties of SiO2/Si(100) deposited using electron cyclotron resonance microwave plasma at room temperature 期刊论文
Thin Solid Films, 2000, 卷号: 370, 期号: 1—2, 页码: 199-202
作者:  Jia Y.;  Liang Y.;  Liu Y. C.;  Liu Y. X.;  Shen D. Z.
Adobe PDF(177Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：458/74  |  提交时间：2012/10/21