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Modified band alignment at multilayer MoS2/Al2O3 heterojunctions by nitridation treatment 期刊论文
Journal of Alloys and Compounds, 2019, 卷号: 793, 页码: 599-603
作者:  X.K.Liu;  K.L.Li;  X.J.Sun;  Z.M.Shi;  Z.H.Huang;  Z.W.Li;  L.Min
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Multilayer MoS2,Al2O3 surface,NH3 treatment,Band alignment,field-effect transistor,layer mos2,Chemistry,Materials Science,Metallurgy & Metallurgical Engineering  
Annealing effect on the bipolar resistive switching characteristics of a Ti-Si3N4-n-GaN MIS device 期刊论文
Journal of Alloys and Compounds, 2018, 卷号: 740, 页码: 816-822
作者:  Chen, Y. R.;  Li, Z. M.;  Zhang, Z. W.;  Hu, L. Q.;  Jiang, H.;  Miao, G. Q.;  Song, H.
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Data storage materials  Resistive switching  Metal-insulator-semiconductor  Annealing effect  Nonvolatile memory  nonvolatile memory  behaviors  mechanism  breakdown  layer  power  ti  Chemistry  Materials Science  Metallurgy & Metallurgical Engineering