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H_2稀释度对HFCVD法沉积SiC薄膜结晶度的影响 期刊论文
长春理工大学学报, 2005, 期号: 01, 页码: 90-92
作者:  王辉;  宋航;  金亿鑫;  蒋红;  缪国庆
caj(80Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：442/57  |  提交时间：2013/03/11
碳化硅  H2稀释度  热丝cvd