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软X射线投影光刻技术及其发展(续) 期刊论文
物理实验, 2002, 期号: 06, 页码: 3-6
作者:  金春水;  曹健林
caj(222Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：399/79  |  提交时间：2013/03/11
软x射线:6714  投影光刻:5104  多层膜:4818  反射式:1137  光刻胶:1091  软x射线照射:949  掩膜技术:901  反射率:875  光学系统:601  易氧化材料:561