Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 软X射线投影光刻技术及其发展(续) | |
金春水 ; 曹健林
| |
| 2002-06-25 | |
| 发表期刊 | 物理实验
 |
| 期号 | 06页码:3-6 |
| 关键词 | 软x射线:6714 投影光刻:5104 多层膜:4818 反射式:1137 光刻胶:1091 软x射线照射:949 掩膜技术:901 反射率:875 光学系统:601 易氧化材料:561 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/28740 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 金春水,曹健林. 软X射线投影光刻技术及其发展(续)[J]. 物理实验,2002(06):3-6. |
| APA | 金春水,&曹健林.(2002).软X射线投影光刻技术及其发展(续).物理实验(06),3-6. |
| MLA | 金春水,et al."软X射线投影光刻技术及其发展(续)".物理实验 .06(2002):3-6. |
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