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The effects of TMDD-PA concentration on roughness of Si <1 1 0> and etching rate ratio of Si <1 1 0>/<1 1 1> in alkaline KOH solution 期刊论文
Chemical Physics, 2020, 卷号: 529, 页码: 4
作者:  C. L. Zhu,Q. B. Jiao,X. Tan,H. Hu and Bayanheshig
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