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Edge smoothness enhancement in DMD scanning lithography system based on a wobulation technique 期刊论文
Optics Express, 2017, 卷号: 25, 期号: 18
作者:  Chen, R. H.;  H. Liu;  H. L. Zhang;  W. J. Zhang;  J. Xu;  W. B. Xu and J. H. Li
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High precision system modeling of liquid crystal adaptive optics systems 期刊论文
Optics Express, 2017, 卷号: 25, 期号: 9
作者:  Zhang, X. Y.;  Z. L. Cao;  H. Y. Xu;  Y. K. Wang;  D. Y. Li;  S. X. Wang;  C. L. Yang;  Q. Q. Mu and L. Xuan
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Scene-based nonuniformity correction for airborne point target detection systems 期刊论文
Optics Express, 2017, 卷号: 25, 期号: 13
作者:  Zhou, D. B.;  D. J. Wang;  L. J. Huo;  R. Liu and P. Jia
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Precision measurement of X-axis stage mirror profile in scanning beam interference lithography by three-probe system based on bidirectional integration model 期刊论文
Optics Express, 2017, 卷号: 25, 期号: 9
作者:  Liu, Z. W.;  S. Jiang;  X. T. Li;  Y. Song;  W. H. Li and Bayanheshig
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