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Study on a wideband, variable aperture, high resolution scatterometer for planar diffraction grating stray light measurement 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 2
作者:  Yang, J.;  R. Zhang;  L. Yin;  C. Sun and T. J. Li
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Beam drift error and control technology for scanning beam interference lithography 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 14
作者:  Wang, W.;  Y. Song;  S. Jiang;  M. Z. Pan and Bayanheshing
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Low-stress and high-reflectance Mo/Si multilayers for extreme ultraviolet lithography by magnetron sputtering deposition with bias assistance 期刊论文
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 26
作者:  Yu, B.;  C. S. Jin;  S. Yao;  C. Li;  Y. Liu;  F. Zhou;  B. Y. Guo;  H. Wang;  Y. Xie and L. P. Wang
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