Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 应用于325 nm波段高透过低降解液晶材料 | |
刘怀宇; 刘永刚 ; 王启东; 穆全全; 杨小东; 彭增辉
| |
| 2024-01-15 | |
| 发表期刊 | 液晶与显示
 |
| 卷号 | 39期号:01页码:10-16 |
| 摘要 | 液晶空间光调制器通过改变驱动电压强度控制液晶分子排布实现对光的调制。紫外区域可用的液晶空间光调制器随光聚合式3D打印等应用的兴起，重要性日益显现。然而绝大多数液晶材料都是有机物，在紫外波段存在光吸收和光反应。为了拓宽液晶材料的应用波段，本文通过选择在应用波段不发生紫外吸收和光反应的官能团，设计了一类可在325～400 nm波段应用不发生光吸收和光反应的液晶材料，并对液晶材料的紫外-可见光光谱进行仿真以验证设计的合理性。将耐紫外液晶化合物配置成混合液晶材料后与常见的两种混合液晶材料的紫外稳定性进行比较。在经过120 min的325 nm紫外光源的辐照后，液晶材料的吸光度和相变温度几乎不变，双折射率变化0.04%，阈值电压变化1.39%，响应时间变化0.32%。 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/68760 |
| 专题 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 作者单位 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 第一作者单位 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘怀宇,刘永刚,王启东,等. 应用于325 nm波段高透过低降解液晶材料[J]. 液晶与显示,2024,39(01):10-16. |
| APA | 刘怀宇,刘永刚,王启东,穆全全,杨小东,&彭增辉.(2024).应用于325 nm波段高透过低降解液晶材料.液晶与显示,39(01),10-16. |
| MLA | 刘怀宇,et al."应用于325 nm波段高透过低降解液晶材料".液晶与显示 39.01(2024):10-16. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 应用于325 nm波段高透过低降解液晶材（1708KB） | 期刊论文 | 出版稿 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 浏览 下载 | |
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| 谷歌学术 |
| 谷歌学术中相似的文章 |
| [刘怀宇]的文章 |
| [刘永刚]的文章 |
| [王启东]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [刘怀宇]的文章 |
| [刘永刚]的文章 |
| [王启东]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [刘怀宇]的文章 |
| [刘永刚]的文章 |
| [王启东]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论