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光栅精密位移测量技术发展综述
高旭; 李舒航; 马庆林; 陈伟
2019
发表期刊中国光学
卷号12期号:04页码:741-752
摘要精密测量是精密机械加工的基础,是制造行业中影响制造精度的决定性因素之一,在当代精密机械制造领域应用广泛。基于光栅的精密位移测量系统以其对环境要求小,测量分辨率高等优点,在精密位移测量领域占据重要位置。基于光栅的精密位移测量系统包括光学测量系统、信号接收、电子学细分及整体装调几部分。本文主要针对光学测量光路部分进行综述介绍。首先介绍了经典光栅干涉位移测量原理;其次,综述了基于光栅的精密位移测量系统的关键技术现状;再次,对比分析了几种最具有代表性的测量技术,总结其优缺点;最后,对基于光栅的精密位移测量技术进行展望,揭示其高精度、高分辨力、高鲁棒性、微型化、多维化、多技术融合的发展趋势。
关键词位移测量 光栅 高精度测量 衍射干涉
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/63598
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
高旭,李舒航,马庆林,等. 光栅精密位移测量技术发展综述[J]. 中国光学,2019,12(04):741-752.
APA 高旭,李舒航,马庆林,&陈伟.(2019).光栅精密位移测量技术发展综述.中国光学,12(04),741-752.
MLA 高旭,et al."光栅精密位移测量技术发展综述".中国光学 12.04(2019):741-752.
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