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扫描干涉场曝光系统中光束对准误差及其控制
王玮; 巴音贺希格; 潘明忠; 宋莹; 李文昊
2017
发表期刊光学学报
页码247-256
摘要为了提升扫描干涉场曝光光束对准精度,保证制作的光栅掩模槽形的质量,建立了曝光光束对准误差模型,利用模型对光束对准误差进行了分析。同时为了满足系统对光束重叠精度的要求,设计研制了光束自动对准系统,并对曝光光束进行了对准实验。分析结果表明,当光束存在较大对准误差时,光栅基底表面曝光对比度大幅下降,而且由于采用步进扫描的曝光方式,光刻胶表面出现了各处曝光不均匀的现象,影响光栅掩模槽形的质量。设计的对准系统可以对光束角度与位置进行对准调节,系统整体表现出良好的收敛性能,多步调节后可使光束位置对准精度优于10μm,光束角度对准精度优于9μrad。这样的曝光光束对准精度可以满足系统要求,达到了预期的设计目的。
关键词光学设计 光栅 扫描干涉场曝光 光束对准 曝光对比度 位置解耦 角度解耦
DOIA0167B2825CAC66762C75FE1077F7F35
语种中文
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文献类型期刊论文
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专题中科院长春光机所知识产出
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王玮,巴音贺希格,潘明忠,等. 扫描干涉场曝光系统中光束对准误差及其控制[J]. 光学学报,2017:247-256.
APA 王玮,巴音贺希格,潘明忠,宋莹,&李文昊.(2017).扫描干涉场曝光系统中光束对准误差及其控制.光学学报,247-256.
MLA 王玮,et al."扫描干涉场曝光系统中光束对准误差及其控制".光学学报 (2017):247-256.
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