Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 绝对式光栅尺母尺刻划曝光系统 | |
刘华 ; 卢振武; 熊峥; 王尧; 王鹤; 黄剑波; 谭向全; 孙强
| |
| 2014-07-15 | |
| 发表期刊 | 光学精密工程
 |
| 期号 | 7页码:1814-1819 |
| 摘要 | 提出了基于数字微镜器件(DMD)的双曝光头总体结构,该结构可同时刻划母尺的周期和非周期两个光栅码道。单曝光头包含曝光光源、调焦光源、DMD和投影镜头四部分,曝光光源由激光器、准直镜组、二维微透镜阵列和场镜组成。本文利用光学软件TracePro设计该光源,实现了能量的平顶分布,在14mm×10mm的照明面上均匀性达到95%以上。利用光学软件Zemax设计了工作在双波段(曝光光源0.403～0.407μm和调焦光源0.525～0.535μm)的共焦投影镜头,采用了二向色镜和分光棱镜使其能在曝光的同时进行实时调焦,优化后的系统在曝光波段和调焦波段均达到衍射极限,最大畸变为0.009%。与传统的光栅尺刻划技术对比,设计的曝光系统具有工艺简单、制作速度快、精度高等优势,可用于长、超长计量光栅的制作。 |
| 关键词 | 绝对式光栅尺 光栅码道 母尺刻划 数字微镜器件 曝光头 计量光栅 |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/42927 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘华,卢振武,熊峥,等. 绝对式光栅尺母尺刻划曝光系统[J]. 光学精密工程,2014(7):1814-1819. |
| APA | 刘华.,卢振武.,熊峥.,王尧.,王鹤.,...&孙强.(2014).绝对式光栅尺母尺刻划曝光系统.光学精密工程(7),1814-1819. |
| MLA | 刘华,et al."绝对式光栅尺母尺刻划曝光系统".光学精密工程 .7(2014):1814-1819. |
| 条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 绝对式光栅尺母尺刻划曝光系统.caj（500KB） | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 浏览 下载 | |||
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| 谷歌学术 |
| 谷歌学术中相似的文章 |
| [刘华]的文章 |
| [卢振武]的文章 |
| [熊峥]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [刘华]的文章 |
| [卢振武]的文章 |
| [熊峥]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [刘华]的文章 |
| [卢振武]的文章 |
| [熊峥]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论