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高准确度光学系统中材料非均匀性对成像质量的影响
刘洋舟; 李晓彤; 岑兆丰; 许伟才; 尚红波; 阮望超
2013-04-15
发表期刊光子学报
期号04页码:451-455
摘要利用Zernike多项式对用Zygo干涉仪测得的离散材料折射率数据进行了拟合,再使用光线光学的方法评价了系统的成像质量.由于材料折射率分布的无规则性,在对包含非均匀介质的实际光学系统的模拟仿真和优化时,需要考虑选取材料不同部位加工成的透镜会对系统成像质量有不同的影响,而且加工好的透镜在装配过程中,绕着光轴旋转不同的角度同样会影响成像质量.通过计算机模拟的方法预先选取材料的最佳部位以及找到最好的装配位置,从而提高了光学系统的性能.
关键词光学设计 非均匀 光线追迹 成像质量
收录类别CNKI
语种中文
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/38984
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
刘洋舟,李晓彤,岑兆丰,等. 高准确度光学系统中材料非均匀性对成像质量的影响[J]. 光子学报,2013(04):451-455.
APA 刘洋舟,李晓彤,岑兆丰,许伟才,尚红波,&阮望超.(2013).高准确度光学系统中材料非均匀性对成像质量的影响.光子学报(04),451-455.
MLA 刘洋舟,et al."高准确度光学系统中材料非均匀性对成像质量的影响".光子学报 .04(2013):451-455.
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