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基于解析分区法设计闪耀全息凹面光栅
谭鑫; 沈晨; 吴娜; 张方程; 巴音贺希格
2013-09-15
发表期刊光学精密工程
期号09页码:2303-2308
摘要研究了制备闪耀凹面光栅的离子束刻蚀工艺,提出了用解析分区法设计闪耀凹面光栅的衍射效率。该方法能通过确定离子束入射角,在实验前定量给出平行离子束刻蚀后光栅衍射效率的设计结果。经过理论设计计算出所需波长衍射效率较高的凹面闪耀光栅中心闪耀角,利用刻蚀模拟软件BLAZING计算出离子束刻蚀参数及光刻胶掩模参数;以计算结果为依据,利用全息-离子束刻蚀工艺制作出尺寸为45 mm×40 mm2,曲率半径为224 mm的凹面闪耀光栅,其中心闪耀角约为9.21°,峰值衍射效率为54.8%@300 nm,250 nm处衍射效率为50%,与解析分区法计算结果符合较好。实验结果表明,利用解析分区法进行凹面闪耀光栅衍射效率设计的方法简单易行,能够有效指导平行离子束刻蚀闪耀凹面光栅工艺,完成高衍射效率凹面闪耀光栅的制作。
关键词凹面光栅 闪耀光栅 分区法 衍射效率 离子束刻蚀
收录类别CNKI
语种中文
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/38837
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
谭鑫,沈晨,吴娜,等. 基于解析分区法设计闪耀全息凹面光栅[J]. 光学精密工程,2013(09):2303-2308.
APA 谭鑫,沈晨,吴娜,张方程,&巴音贺希格.(2013).基于解析分区法设计闪耀全息凹面光栅.光学精密工程(09),2303-2308.
MLA 谭鑫,et al."基于解析分区法设计闪耀全息凹面光栅".光学精密工程 .09(2013):2303-2308.
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