Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 点衍射干涉仪小孔掩模技术研究进展 | |
于长淞 ; 向阳
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| 2013-03-10 | |
| 发表期刊 | 激光与光电子学进展
 |
| 期号 | 03页码:33-39 |
| 摘要 | 在点衍射干涉仪中小孔掩模的主要作用是通过衍射产生接近理想的球面波用于干涉测量,其直径、圆度及三维形貌对测量精度有决定性影响。介绍了小孔掩模的结构与作用原理,对小孔衍射电磁场仿真技术进行了分类比较。对国内外现有小孔掩模加工技术的发展进行了归纳总结,阐述了聚焦离子束刻蚀、电子束曝光等加工技术的加工原理、加工精度及技术特点,指出了掩模对准精度对测量重复性的影响。分析了各种检测方法及存在的主要技术问题,并对小孔三维形貌的测量技术进行了展望。 |
| 关键词 | 光学器件 小孔掩模 电磁场仿真 波像差 |
| 收录类别 | CNKI |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/38578 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 于长淞,向阳. 点衍射干涉仪小孔掩模技术研究进展[J]. 激光与光电子学进展,2013(03):33-39. |
| APA | 于长淞,&向阳.(2013).点衍射干涉仪小孔掩模技术研究进展.激光与光电子学进展(03),33-39. |
| MLA | 于长淞,et al."点衍射干涉仪小孔掩模技术研究进展".激光与光电子学进展 .03(2013):33-39. |
| 条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 点衍射干涉仪小孔掩模技术研究进展.caj（1034KB） | 开放获取 | CC BY-NC-ND | 浏览 下载 | |||
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