Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 8．0nm附近Mo／B4C软X射线多层膜初步研究 | |
| 吕俊霞; 曹健林 | |
| 1996-10-30 | |
| 发表期刊 | 光学精密工程
 |
| 期号 | 05页码:37-41 |
| 关键词 | 软x射线 Mo／b4c多层膜 磁控溅射 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/32560 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 吕俊霞,曹健林. 8．0nm附近Mo／B4C软X射线多层膜初步研究[J]. 光学精密工程,1996(05):37-41. |
| APA | 吕俊霞,&曹健林.(1996).8．0nm附近Mo／B4C软X射线多层膜初步研究.光学精密工程(05),37-41. |
| MLA | 吕俊霞,et al."8．0nm附近Mo／B4C软X射线多层膜初步研究".光学精密工程 .05(1996):37-41. |
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