Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测──等离子发射光谱法 | |
| 米宝永 | |
| 1996-06-30 | |
| 发表期刊 | 光学精密工程
 |
| 期号 | 03页码:75-80 |
| 关键词 | 等离子体 发射光谱 在线监测 刻蚀 大规模集成电路 终点 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/32419 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 米宝永. 大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测──等离子发射光谱法[J]. 光学精密工程,1996(03):75-80. |
| APA | 米宝永.(1996).大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测──等离子发射光谱法.光学精密工程(03),75-80. |
| MLA | 米宝永."大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测──等离子发射光谱法".光学精密工程 .03(1996):75-80. |
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| 大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测_（257KB） | 开放获取 | -- | 浏览 下载 | |||
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