Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
8.0nm X射线激光反射镜Mo/B-4C多层膜制备及其特性 | |
吕俊霞; 马月英; 裴舒; 沈长斌; 曹健林; 陈星旦 | |
1999-07-20 | |
发表期刊 | 原子能科学技术 |
期号 | 04页码:343-345 |
关键词 | 软x射线 Mo/b_4c多层膜 磁控溅射法 |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/32329 |
专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 吕俊霞,马月英,裴舒,等. 8.0nm X射线激光反射镜Mo/B-4C多层膜制备及其特性[J]. 原子能科学技术,1999(04):343-345. |
APA | 吕俊霞,马月英,裴舒,沈长斌,曹健林,&陈星旦.(1999).8.0nm X射线激光反射镜Mo/B-4C多层膜制备及其特性.原子能科学技术(04),343-345. |
MLA | 吕俊霞,et al."8.0nm X射线激光反射镜Mo/B-4C多层膜制备及其特性".原子能科学技术 .04(1999):343-345. |
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8_0nmX射线激光反射镜Mo_B_4C(68KB) | 开放获取 | -- | 浏览 下载 |
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