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8.0nm X射线激光反射镜Mo/B-4C多层膜制备及其特性
吕俊霞; 马月英; 裴舒; 沈长斌; 曹健林; 陈星旦
1999-07-20
发表期刊原子能科学技术
期号04页码:343-345
关键词软x射线 Mo/b_4c多层膜 磁控溅射法
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/32329
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
吕俊霞,马月英,裴舒,等. 8.0nm X射线激光反射镜Mo/B-4C多层膜制备及其特性[J]. 原子能科学技术,1999(04):343-345.
APA 吕俊霞,马月英,裴舒,沈长斌,曹健林,&陈星旦.(1999).8.0nm X射线激光反射镜Mo/B-4C多层膜制备及其特性.原子能科学技术(04),343-345.
MLA 吕俊霞,et al."8.0nm X射线激光反射镜Mo/B-4C多层膜制备及其特性".原子能科学技术 .04(1999):343-345.
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