Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 磁控溅射法制备Mo/B_4C软X射线多层膜 | |
吕俊霞; 马月英; 裴舒; 曹健林; 陈星旦
| |
| 1999-04-15 | |
| 发表期刊 | 真空科学与技术
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| 期号 | 02页码:67-69 |
| 关键词 | 软x射线多层膜 磁控溅射 Mo/b4c |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/31052 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 吕俊霞,马月英,裴舒,等. 磁控溅射法制备Mo/B_4C软X射线多层膜[J]. 真空科学与技术,1999(02):67-69. |
| APA | 吕俊霞,马月英,裴舒,曹健林,&陈星旦.(1999).磁控溅射法制备Mo/B_4C软X射线多层膜.真空科学与技术(02),67-69. |
| MLA | 吕俊霞,et al."磁控溅射法制备Mo/B_4C软X射线多层膜".真空科学与技术 .02(1999):67-69. |
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| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 磁控溅射法制备Mo_B_4C软X射线多层（32KB） | 开放获取 | -- | 浏览 下载 | |||
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