Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| Mo/Si多层膜残余应力的研究 | |
向鹏; 金春水
| |
| 2003-02-25 | |
| 发表期刊 | 光学精密工程
 |
| 期号 | 01页码:62-67 |
| 关键词 | 极紫外光刻 多层膜 残余应力 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/30149 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 向鹏,金春水. Mo/Si多层膜残余应力的研究[J]. 光学精密工程,2003(01):62-67. |
| APA | 向鹏,&金春水.(2003).Mo/Si多层膜残余应力的研究.光学精密工程(01),62-67. |
| MLA | 向鹏,et al."Mo/Si多层膜残余应力的研究".光学精密工程 .01(2003):62-67. |
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| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| Mo_Si多层膜残余应力的研究.caj（74KB） | 开放获取 | -- | 浏览 下载 | |||
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