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热退火对电子束蒸镀方法制备的ZnO:Al薄膜光电性质的影响
骆英民; 马剑刚; 徐海阳; 刘益春; 钟殿强; 齐秀英
2004-10-30
发表期刊人工晶体学报
期号05页码:776-780
关键词Zno:Al薄膜 电子束蒸镀 退火 Vanderpauw法 光致发光谱
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/29836
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
骆英民,马剑刚,徐海阳,等. 热退火对电子束蒸镀方法制备的ZnO:Al薄膜光电性质的影响[J]. 人工晶体学报,2004(05):776-780.
APA 骆英民,马剑刚,徐海阳,刘益春,钟殿强,&齐秀英.(2004).热退火对电子束蒸镀方法制备的ZnO:Al薄膜光电性质的影响.人工晶体学报(05),776-780.
MLA 骆英民,et al."热退火对电子束蒸镀方法制备的ZnO:Al薄膜光电性质的影响".人工晶体学报 .05(2004):776-780.
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