Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
热退火对电子束蒸镀方法制备的ZnO:Al薄膜光电性质的影响 | |
骆英民; 马剑刚; 徐海阳; 刘益春; 钟殿强; 齐秀英 | |
2004-10-30 | |
发表期刊 | 人工晶体学报 |
期号 | 05页码:776-780 |
关键词 | Zno:Al薄膜 电子束蒸镀 退火 Vanderpauw法 光致发光谱 |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/29836 |
专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 骆英民,马剑刚,徐海阳,等. 热退火对电子束蒸镀方法制备的ZnO:Al薄膜光电性质的影响[J]. 人工晶体学报,2004(05):776-780. |
APA | 骆英民,马剑刚,徐海阳,刘益春,钟殿强,&齐秀英.(2004).热退火对电子束蒸镀方法制备的ZnO:Al薄膜光电性质的影响.人工晶体学报(05),776-780. |
MLA | 骆英民,et al."热退火对电子束蒸镀方法制备的ZnO:Al薄膜光电性质的影响".人工晶体学报 .05(2004):776-780. |
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