CIOMP OpenIR  > 中科院长春光机所知识产出
多晶硅薄膜晶体管工艺中的反应性离子刻蚀
王大海; 李轶华; 孙艳; 吴渊; 陈国军; 付国柱; 荆海; 万春明
2002-02-28
发表期刊液晶与显示
期号01页码:59-64
关键词多晶硅薄膜晶体管 反应性离子刻蚀 刻蚀速率 选择比
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/29589
专题中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
王大海,李轶华,孙艳,等. 多晶硅薄膜晶体管工艺中的反应性离子刻蚀[J]. 液晶与显示,2002(01):59-64.
APA 王大海.,李轶华.,孙艳.,吴渊.,陈国军.,...&万春明.(2002).多晶硅薄膜晶体管工艺中的反应性离子刻蚀.液晶与显示(01),59-64.
MLA 王大海,et al."多晶硅薄膜晶体管工艺中的反应性离子刻蚀".液晶与显示 .01(2002):59-64.
条目包含的文件
文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
多晶硅薄膜晶体管工艺中的反应性离子刻蚀.(42KB) 开放获取--浏览 请求全文
个性服务
推荐该条目
保存到收藏夹
查看访问统计
导出为Endnote文件
谷歌学术
谷歌学术中相似的文章
[王大海]的文章
[李轶华]的文章
[孙艳]的文章
百度学术
百度学术中相似的文章
[王大海]的文章
[李轶华]的文章
[孙艳]的文章
必应学术
必应学术中相似的文章
[王大海]的文章
[李轶华]的文章
[孙艳]的文章
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
文件名: 多晶硅薄膜晶体管工艺中的反应性离子刻蚀.caj
格式: caj
此文件暂不支持浏览
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。