Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 多晶硅薄膜晶体管工艺中的反应性离子刻蚀 | |
| 王大海; 李轶华; 孙艳; 吴渊; 陈国军; 付国柱; 荆海; 万春明 | |
| 2002-02-28 | |
| 发表期刊 | 液晶与显示
 |
| 期号 | 01页码:59-64 |
| 关键词 | 多晶硅薄膜晶体管 反应性离子刻蚀 刻蚀速率 选择比 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/29589 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王大海,李轶华,孙艳,等. 多晶硅薄膜晶体管工艺中的反应性离子刻蚀[J]. 液晶与显示,2002(01):59-64. |
| APA | 王大海.,李轶华.,孙艳.,吴渊.,陈国军.,...&万春明.(2002).多晶硅薄膜晶体管工艺中的反应性离子刻蚀.液晶与显示(01),59-64. |
| MLA | 王大海,et al."多晶硅薄膜晶体管工艺中的反应性离子刻蚀".液晶与显示 .01(2002):59-64. |
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