Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展 | |
| 臧春雨; 曹望和; 石春山 | |
| 2003-06-15 | |
| 发表期刊 | 材料导报
 |
| 期号 | 06页码:34-36 |
| 关键词 | 半导体制造业 157nm紫外光刻技术 Caf_2晶体 双折射 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/28359 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 臧春雨,曹望和,石春山. 157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展[J]. 材料导报,2003(06):34-36. |
| APA | 臧春雨,曹望和,&石春山.(2003).157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展.材料导报(06),34-36. |
| MLA | 臧春雨,et al."157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展".材料导报 .06(2003):34-36. |
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