CIOMP OpenIR  > 中科院长春光机所知识产出
157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展
臧春雨; 曹望和; 石春山
2003-06-15
发表期刊材料导报
期号06页码:34-36
关键词半导体制造业 157nm紫外光刻技术 Caf_2晶体 双折射
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/28359
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
臧春雨,曹望和,石春山. 157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展[J]. 材料导报,2003(06):34-36.
APA 臧春雨,曹望和,&石春山.(2003).157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展.材料导报(06),34-36.
MLA 臧春雨,et al."157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展".材料导报 .06(2003):34-36.
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