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MgNiO-based metal-semiconductor-metal ultraviolet photodetector
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Zhao Y. M.; Zhang J. Y.; Jiang D. Y.; Shan C. X.; Zhang Z. Z.; Yao B.; Zhao D. X.; Shen D. Z.
2009
发表期刊Journal of Physics D-Applied Physics
ISSN0022-3727
卷号42期号:9
摘要In this study, we report the growth of Mg(x)Ni(1-x)O thin films on quartz substrates by electron beam evaporation. The absorption edge shows a blue shift from 340 nm to 260 nm with increase in the Mg content from 0.2 to 0.8. A metal-semiconductor-metal structured photodetector is fabricated from the Mg(0.2)Ni(0.8)O film. At a bias of 5V, the dark current of the photodetector is about 70 nA. The maximum responsivity is about 147.3 mu AW(-1) at 320 nm. In addition, the ultraviolet (UV) (320 nm) to visible (400 nm) rejection ratio is nearly two orders of magnitude. Based on these results, it is proposed that Mg(x)Ni(1-x)O is a potential candidate for application in UV photodetectors.
收录类别SCI ; EI
语种英语
文献类型期刊论文
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专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
Zhao Y. M.,Zhang J. Y.,Jiang D. Y.,et al. MgNiO-based metal-semiconductor-metal ultraviolet photodetector[J]. Journal of Physics D-Applied Physics,2009,42(9).
APA Zhao Y. M..,Zhang J. Y..,Jiang D. Y..,Shan C. X..,Zhang Z. Z..,...&Shen D. Z..(2009).MgNiO-based metal-semiconductor-metal ultraviolet photodetector.Journal of Physics D-Applied Physics,42(9).
MLA Zhao Y. M.,et al."MgNiO-based metal-semiconductor-metal ultraviolet photodetector".Journal of Physics D-Applied Physics 42.9(2009).
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