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Ultralow-Threshold Laser Realized in Zinc Oxide
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Zhu H.; Shan C. X.; Yao B.; Li B. H.; Zhang J. Y.; Zhang Z. Z.; Zhao D. X.; Shen D. Z.; Fan X. W.; Lu Y. M.; Tong Z. K.
2009
发表期刊Advanced Materials
ISSN0935-9648
卷号21期号:16页码:1613-+
摘要Lasing action is realized in a ZnO/GaN heterojunction by employing a MgO interlayer. The MgO layer can confine electrons in the ZnO layer, while holes can pass through the MgO layer and enter into the n-ZnO layer from the p-GaN layer. The threshold of the lasing action is as low as 0.8 mA.
收录类别SCI
语种英语
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/24802
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
Zhu H.,Shan C. X.,Yao B.,et al. Ultralow-Threshold Laser Realized in Zinc Oxide[J]. Advanced Materials,2009,21(16):1613-+.
APA Zhu H..,Shan C. X..,Yao B..,Li B. H..,Zhang J. Y..,...&Tong Z. K..(2009).Ultralow-Threshold Laser Realized in Zinc Oxide.Advanced Materials,21(16),1613-+.
MLA Zhu H.,et al."Ultralow-Threshold Laser Realized in Zinc Oxide".Advanced Materials 21.16(2009):1613-+.
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