| 脉冲激光沉积制备ZnO薄膜及其发光性质研究 |
| 王璟璟; 李清山; 陈达; 孔祥贵 ; 郑学刚; 张宁; 赵波
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| 2006-09-15
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| 发表期刊 | 光电子·激光
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| ISSN | 1005-0086
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| 期号 | 9 |
| 摘要 | 采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在Si(100)衬底上制备出高度c轴取向的ZnO薄膜。通过测量X射线衍射(XRD)谱、扫描电镜(SEM)和光致发光(PL)谱,研究了衬底温度改变对薄膜结构和PL的影响。实验结果表明,当衬底温度从400℃升到700℃时,薄膜的(002)衍射峰半高宽(FWHM)变窄,紫外(UV)发光强度在衬底温度为500℃达到最强。这可能是当衬底温度为500℃时,ZnO薄膜的化学配比较好,说明化学配比对UV发光的影响要大于薄膜微结构的影响。改变衬底温度对薄膜的表面形貌也有较大的影响。 |
| 关键词 | Zno
光致发光(Pl)
半高宽(Fwhm)
脉冲激光沉积(Pld)
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/24220
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| 专题 | 中科院长春光机所知识产出
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
王璟璟,李清山,陈达,等. 脉冲激光沉积制备ZnO薄膜及其发光性质研究[J]. 光电子·激光,2006(9).
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| APA |
王璟璟.,李清山.,陈达.,孔祥贵.,郑学刚.,...&赵波.(2006).脉冲激光沉积制备ZnO薄膜及其发光性质研究.光电子·激光(9).
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| MLA |
王璟璟,et al."脉冲激光沉积制备ZnO薄膜及其发光性质研究".光电子·激光 .9(2006).
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文件名：
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格式：
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caj
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