Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 用于光刻投影物镜检测的高精度菲佐干涉仪误差分析 | |
苗二龙 ; 谷永强; 康玉思; 刘伟奇
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| 2010-11-01 | |
| 发表期刊 | 中国激光
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| ISSN | 0258-7025 |
| 卷号 | 37期号:8页码:2029-2034 |
| 摘要 | 光刻投影物镜元件面形精度为纳米量级,因此要求检测精度为纳米到亚纳米量级。为了完成光刻投影物镜的光学元件面形检测任务,提出了利用菲佐型干涉仪进行检测的方法。通过理论分析和计算模拟,分别对相移误差、参考面误差、探测器非线性误差等系统误差以及光源稳定性、环境控制等影响干涉仪测量精度的主要因素进行分析,给出了测量误差大小与干涉仪结构参数之间的关系。计算结果表明,限制菲佐干涉仪检测精度的主要因素是参考面的精度和环境的影响。针对以上结果给出了提高干涉仪测量精度与减小测量误差的方法,对高精度菲佐干涉仪的研制具有一定的参考价值。 |
| 收录类别 | EI |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/23457 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 苗二龙,谷永强,康玉思,等. 用于光刻投影物镜检测的高精度菲佐干涉仪误差分析[J]. 中国激光,2010,37(8):2029-2034. |
| APA | 苗二龙,谷永强,康玉思,&刘伟奇.(2010).用于光刻投影物镜检测的高精度菲佐干涉仪误差分析.中国激光,37(8),2029-2034. |
| MLA | 苗二龙,et al."用于光刻投影物镜检测的高精度菲佐干涉仪误差分析".中国激光 37.8(2010):2029-2034. |
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| 用于光刻投影物镜检测的高精度菲佐干涉仪误（268KB） | 开放获取 | -- | 浏览 下载 | |||
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