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808nm高占空比大功率半导体激光器阵列
秦莉
2009-11-04
发表期刊强激光与粒子束
ISSN1001-4322
卷号11期号:21页码:1615
摘要采用渐变折射率分别限制单量子阱宽波导结构,通过降低非辐射复合、有源层载流子泄露、散射和吸收损耗来提高出射效率和降低激光阈值电流,从而提高半导体激光器阵列的输出功率;同时使P面具有更高的粒子掺杂数密度,优化N面合金条件,降低半导体激光器的串联电阻,降低焦耳热,提高了半导体激光器阵列的转换效率。利用金属有机化学气相淀积技术生长GaInAsP/InGaP/AlGaAs渐变折射率分别限制单量子阱宽波导结构激光器材料,利用该材料制成半导体激光线阵列在20%高占空比的输入电流下,半导体激光器的输出峰值功率达到189.64W(180A),斜率效率为1.1W/A,中心波长为805.0nm,阈值电流为7.6A,电光转换效率最高可达55.4%;在1%占空比的输入电流下,阵列的输出峰值功率可达324.9W(300A),斜率效率为1.11W/A,阈值电流为7.8A,电光转化效率最高达55.6%,中心波长为804.5nm。
收录类别EI
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/23292
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
秦莉. 808nm高占空比大功率半导体激光器阵列[J]. 强激光与粒子束,2009,11(21):1615.
APA 秦莉.(2009).808nm高占空比大功率半导体激光器阵列.强激光与粒子束,11(21),1615.
MLA 秦莉."808nm高占空比大功率半导体激光器阵列".强激光与粒子束 11.21(2009):1615.
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