Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 非均匀性校正在红外杂散辐射抑制中的应用 | |
| 张葆 | |
| 2008-12-03 | |
| 发表期刊 | 光学精密工程
 |
| 期号 | 12 |
| 摘要 | 红外系统中常规的光机设计尚无法完全抑制杂散辐射,其残余的杂散辐射还可能引起图像异常。通过分析红外探测器非均匀性产生的原因,提出运用非均匀性校正的方法抑制红外杂散辐射,并给出了用两点温度标定法抑制杂散辐射的理论依据。对某型三档中波红外变焦系统进行了杂散辐射分析,TracePro红外辐射仿真分析表明:系统中残余的杂散辐射主要源自变焦过程中镜片移动引起的冷反射变化,两点温度校正后红外图像的非均匀性由0.066%降低到0.027%,成功消除了视场中的阴影,得到了满意的红外图像。实验结果证明,该方法能有效改善红外系统中残余杂散辐射引起的图像异常。 |
| 收录类别 | EI |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/23116 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张葆. 非均匀性校正在红外杂散辐射抑制中的应用[J]. 光学精密工程,2008(12). |
| APA | 张葆.(2008).非均匀性校正在红外杂散辐射抑制中的应用.光学精密工程(12). |
| MLA | 张葆."非均匀性校正在红外杂散辐射抑制中的应用".光学精密工程 .12(2008). |
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