Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 用于微镜制作的叠层光刻胶工艺及残余应力控制 | |
张平 ; 吴一辉
| |
| 2008-11-01 | |
| 发表期刊 | 光学精密工程
 |
| 期号 | 11 |
| 摘要 | 对应用于微反射镜制作的叠层光刻胶牺牲层工艺及微反射镜表面残余应力控制进行了研究。讨论了光刻胶牺牲层在电镀时的污染问题,提出了用电镀结束后重新制作光刻胶牺牲层的方法来保证牺牲层表面质量。同时提出蒸发-电镀相结合的工艺,解决了上层光刻胶溶剂穿过中间结构层浸入底层光刻胶的问题,并通过控制蒸发与电镀过程中应力状态不同的两层金属薄膜的厚度解决了微反射镜镜面存在残余应力问题。最后成功释放了620μm×500μm×2μm,悬空高12μm的微反射镜结构。 |
| 收录类别 | EI |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/23060 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张平,吴一辉. 用于微镜制作的叠层光刻胶工艺及残余应力控制[J]. 光学精密工程,2008(11). |
| APA | 张平,&吴一辉.(2008).用于微镜制作的叠层光刻胶工艺及残余应力控制.光学精密工程(11). |
| MLA | 张平,et al."用于微镜制作的叠层光刻胶工艺及残余应力控制".光学精密工程 .11(2008). |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 用于微镜制作的叠层光刻胶工艺及残余应力控（334KB） | 开放获取 | -- | 浏览 下载 | |||
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