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基于精密刻划及薄膜沉积技术的光盘分束光栅研制
吴娜; 张善文; 宋可平; 巴音贺希格; 齐向东; 高键翔
2009-07-15
发表期刊光学精密工程
ISSN1004-924X
期号7
摘要给出了采用光栅刻划和镀膜技术相结合研制光盘分束光栅的方法。采用光栅刻划机在金属膜上刻制占宽比为0.5的黑白光栅,并由黑白光栅翻制出制作光盘分束光栅的掩模版。通过掩模版对涂覆在K9玻璃基底上的光刻胶实施曝光和显影形成光刻胶矩形浮雕光栅,在理论设计的误差允许范围内,对此浮雕光栅沉积SiO2薄膜,去除残余光刻胶后得到SiO2矩形光栅母版,再经复制工艺制作了环氧树脂光盘分束光栅。测试结果表明,利用光盘分束光栅的纵向和横向加工误差的互补性,可以将光栅辅助光束与读写主光束强度之比的误差控制在±0.03之内。
关键词光学头 分束光栅 精密刻划 镀膜技术 加工工艺
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/22143
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
吴娜,张善文,宋可平,等. 基于精密刻划及薄膜沉积技术的光盘分束光栅研制[J]. 光学精密工程,2009(7).
APA 吴娜,张善文,宋可平,巴音贺希格,齐向东,&高键翔.(2009).基于精密刻划及薄膜沉积技术的光盘分束光栅研制.光学精密工程(7).
MLA 吴娜,et al."基于精密刻划及薄膜沉积技术的光盘分束光栅研制".光学精密工程 .7(2009).
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