Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 凹球面涂布光刻胶均匀性研究 | |
赵晶丽 ; 冯晓国
| |
| 2009-01-02 | |
| 发表期刊 | 应用光学
 |
| ISSN | 1002-2082 |
| 卷号 | 1期号:30页码:101 |
| 摘要 | 通过对离心法在凹球面上涂布光刻胶过程进行分析,阐明了离心状态下光刻胶在凹球面基底上的流动机理,结合试验提出影响凹球面涂布光刻胶膜厚均匀性的主要因素有胶液粘度、旋涂速度、旋涂时间,列举了以上因素引起的各种现象,并进行了理论分析。引用凹球面旋涂光刻胶的膜厚公式,建立了膜厚与速度关系数学模型;利用流体力学原理解释了有限圆形空间中流体速度对膜层均匀性的影响,从而解决了大曲率凹球面上制备微细图形结构的关键工艺问题,对非球面上制备微细图形具有借鉴作用。 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/21862 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵晶丽,冯晓国. 凹球面涂布光刻胶均匀性研究[J]. 应用光学,2009,1(30):101. |
| APA | 赵晶丽,&冯晓国.(2009).凹球面涂布光刻胶均匀性研究.应用光学,1(30),101. |
| MLA | 赵晶丽,et al."凹球面涂布光刻胶均匀性研究".应用光学 1.30(2009):101. |
| 条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 凹球面涂布光刻胶均匀性研究.caj（140KB） | 开放获取 | -- | 浏览 下载 | |||
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| 谷歌学术 |
| 谷歌学术中相似的文章 |
| [赵晶丽]的文章 |
| [冯晓国]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [赵晶丽]的文章 |
| [冯晓国]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [赵晶丽]的文章 |
| [冯晓国]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论