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紫外ICCD面均匀性测试技术研究
赵玉环; 闫丰; 周跃; 隋永新; 杨怀江; 曹健林
2008-11-15
发表期刊光学技术
ISSN1002-1582
期号6
摘要以辐射度学为理论基础,研究了紫外ICCD(UV-ICCD)面的响应均匀性测试技术。论述了200~300nmUV-IOED面均匀性的测试方案。使用入射口径为100μm的光谱仪对UV-ICCD靶面处的均匀性进行了测试。测试结果表明,靶面处辐照度场的不均匀性不高于1.6%。在对靶面处的均匀性进行测试的基础上,对UV-ICCD面的均匀性进行了实际测量,并进行了不确定度分析。结果表明,该方案可应用于UV-ICLD光电探测器件的面均匀性测量。
关键词紫外iccd 标准氘灯 面均匀性
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/21413
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
赵玉环,闫丰,周跃,等. 紫外ICCD面均匀性测试技术研究[J]. 光学技术,2008(6).
APA 赵玉环,闫丰,周跃,隋永新,杨怀江,&曹健林.(2008).紫外ICCD面均匀性测试技术研究.光学技术(6).
MLA 赵玉环,et al."紫外ICCD面均匀性测试技术研究".光学技术 .6(2008).
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