Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 紫外ICCD面均匀性测试技术研究 | |
赵玉环; 闫丰 ; 周跃; 隋永新; 杨怀江; 曹健林
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| 2008-11-15 | |
| 发表期刊 | 光学技术
 |
| ISSN | 1002-1582 |
| 期号 | 6 |
| 摘要 | 以辐射度学为理论基础,研究了紫外ICCD(UV-ICCD)面的响应均匀性测试技术。论述了200～300nmUV-IOED面均匀性的测试方案。使用入射口径为100μm的光谱仪对UV-ICCD靶面处的均匀性进行了测试。测试结果表明,靶面处辐照度场的不均匀性不高于1.6%。在对靶面处的均匀性进行测试的基础上,对UV-ICCD面的均匀性进行了实际测量,并进行了不确定度分析。结果表明,该方案可应用于UV-ICLD光电探测器件的面均匀性测量。 |
| 关键词 | 紫外iccd 标准氘灯 面均匀性 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/21413 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵玉环,闫丰,周跃,等. 紫外ICCD面均匀性测试技术研究[J]. 光学技术,2008(6). |
| APA | 赵玉环,闫丰,周跃,隋永新,杨怀江,&曹健林.(2008).紫外ICCD面均匀性测试技术研究.光学技术(6). |
| MLA | 赵玉环,et al."紫外ICCD面均匀性测试技术研究".光学技术 .6(2008). |
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| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 紫外ICCD面均匀性测试技术研究.caj（258KB） | 开放获取 | -- | 浏览 请求全文 | |||
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