CIOMP OpenIR  > 中科院长春光机所知识产出
带有环尺的掩模版 (实用新型)
崔庆丰
1998-05-06
专利权人中国科学院长春光学精密机械研究所
公开日期1998-05-06
专利类型实用新型
摘要本实用新型属于衍射及二元光学元件制造技术领域,涉及掩模版与待曝光基底中心对准的带有环尺的掩模版。解决已有技术中掩模版中心与待曝光基底中心对准精度低,衍射及二元光学元件的中心偏差难以控制,影响光学系统成象质量的问题。它由光刻掩模版的工作区域,透明和不透明环带,对……
申请日期1996-05-29
专利号2280935
语种中文
申请号96213029.X
文献类型专利
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/12850
专题中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
崔庆丰. 带有环尺的掩模版 (实用新型). 2280935[P]. 1998-05-06.
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