Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
加有离子源的有机蒸发镀膜装置 (实用新型) | |
初国强; 刘星元![]() ![]() | |
2001-12-19 | |
专利权人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
公开日期 | 2001-12-19 |
专利类型 | 实用新型 |
摘要 | 本实用新型是一种附加有离子源的真空有机蒸发镀膜装置,本实用新型是在普通的真空镀膜机上,另外加装一个考夫曼离子源。所加的考夫曼离子源是在衬底基片的下面,同蒸发源等高的位置上,发出的离子束射向衬底基片,用导线和管道同外部的电源和气体源相连。本实用新型可以提高有机层的聚集密度,降低有机层表面粗糙度,提高迁移率和寿命。 |
资助项目 | 2466159 |
申请号 | 1208448.4 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/12303 |
专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 初国强,刘星元,刘云,等. 加有离子源的有机蒸发镀膜装置 (实用新型)[P]. 2001-12-19. |
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CN200100246615900000(107KB) | 开放获取 | -- | 浏览 下载 |
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