中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

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	加有离子源的有机蒸发镀膜装置 (实用新型)
	初国强; 刘星元; 刘云; 王立军
	2001-12-19
专利权人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
公开日期	2001-12-19
专利类型	实用新型
摘要	本实用新型是一种附加有离子源的真空有机蒸发镀膜装置，本实用新型是在普通的真空镀膜机上，另外加装一个考夫曼离子源。所加的考夫曼离子源是在衬底基片的下面，同蒸发源等高的位置上，发出的离子束射向衬底基片，用导线和管道同外部的电源和气体源相连。本实用新型可以提高有机层的聚集密度，降低有机层表面粗糙度，提高迁移率和寿命。
资助项目	2466159
申请号	1208448.4
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/12303
专题	中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	初国强,刘星元,刘云,等. 加有离子源的有机蒸发镀膜装置 (实用新型)[P]. 2001-12-19.

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