中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

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	一种制备倒梯形光刻胶截面的方法 (发明)
	孙晓娟; 李志明; 黎大兵; 宋航; 陈一仁; 缪国庆; 蒋红
	2010-11-10
专利权人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
公开日期	2012-08-29
专利类型	发明专利
摘要	一种制备倒梯形光刻胶截面的方法，涉及微电子与光电子器件领域。它解决了现有图像反转法制备工艺复杂、重复性差，并且难于控制的问题，本发明方法为：采用匀胶机在衬底片表面旋涂光刻胶，匀胶机的转速为：１０００ｒ／ｍｉｎ－６０００ｒ／ｍｉｎ；采用普通烤箱进行前烘，然后采用曝光机将带有图形的光刻板与所述衬底片表面的光刻胶进行接触曝光……
资助项目	101881927A
申请号	201010229018.0
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/11772
专题	中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	孙晓娟,李志明,黎大兵,等. 一种制备倒梯形光刻胶截面的方法 (发明)[P]. 2010-11-10.

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CN201010188192700000（291KB）			开放获取	--	浏览 下载

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