一种在全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的方法 (发明)

	一种在全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的方法 (发明)
	李文昊; 巴音贺希格; 齐向东; 孔鹏; 韩建
	2010-08-04
专利权人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
公开日期	2012-08-29
专利类型	发明专利
摘要	一种在全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的方法，属于光谱技术领域中涉及的一种方法。要解决的技术问题是提供一种在全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的方法。解决的技术方案为：步骤一，配备一套用于全息光栅曝光的洛艾镜式曝光光学系统；步骤二，在洛艾镜式曝光光学系统中置入基准光栅，调整干涉场的干涉条纹密度与基准光栅的刻线密度相同……
资助项目	101793988A
申请号	200910215451.6
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/11716
专题	中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	李文昊,巴音贺希格,齐向东,等. 一种在全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的方法 (发明)[P]. 2010-08-04.