Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 双层双面平面微线圈制作的方法 (发明) | |
梁静秋
| |
| 2006-09-13 | |
| 专利权人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 公开日期 | 2006-09-13 |
| 专利类型 | 发明专利 |
| 摘要 | 本发明属于微机械构件，涉及双层双面平面微线圈的制作步骤如下：硅片双面抛光，双面氧化，双面光刻、腐蚀形成通孔；双面生长电铸阴极，厚胶双面光刻、电铸，形成上、下一层微线圈及通孔引线，去胶；进行第二次厚胶双面光刻后电铸磁芯；去胶，刻蚀掉电铸阴极；双面光刻形成绝缘层，双面溅射电铸阴极；进行第三次厚胶双面光刻、电铸形成上、下二层…… |
| 资助项目 | 1275374 |
| 申请号 | 3111310.9 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/11440 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 梁静秋. 双层双面平面微线圈制作的方法 (发明)[P]. 2006-09-13. |
| 条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| CN200400153301700000（439KB） | 开放获取 | -- | 浏览 下载 | |||
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