Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
双层双面平面微线圈制作的方法 (发明) | |
梁静秋![]() | |
2006-09-13 | |
专利权人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
公开日期 | 2006-09-13 |
专利类型 | 发明专利 |
摘要 | 本发明属于微机械构件,涉及双层双面平面微线圈的制作步骤如下:硅片双面抛光,双面氧化,双面光刻、腐蚀形成通孔;双面生长电铸阴极,厚胶双面光刻、电铸,形成上、下一层微线圈及通孔引线,去胶;进行第二次厚胶双面光刻后电铸磁芯;去胶,刻蚀掉电铸阴极;双面光刻形成绝缘层,双面溅射电铸阴极;进行第三次厚胶双面光刻、电铸形成上、下二层…… |
资助项目 | 1275374 |
申请号 | 3111310.9 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/11440 |
专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 梁静秋. 双层双面平面微线圈制作的方法 (发明)[P]. 2006-09-13. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
CN200400153301700000(439KB) | 开放获取 | -- | 浏览 请求全文 |
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