Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 深刻蚀平面电磁线圈及制作方法 (发明) | |
张平 ; 吴一辉; 杨杰伟; 王淑荣; 郭占社
| |
| 2006-05-31 | |
| 专利权人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 公开日期 | 2006-05-31 |
| 专利类型 | 发明专利 |
| 摘要 | 本发明涉及用于微电机、微电磁传感器、执行器中平面电磁线圈的制作方法。利用光刻在Ｓｉ片表面定义出线圈图形，再利用Ｓｉ深刻蚀，按已定义出的线圈图形，在Ｓｉ片表面刻蚀线圈槽和线圈引线通孔，在线圈槽内金属电铸得到金属结构，线圈槽内表面刻蚀的表面粗糙度将线圈镶嵌于线圈槽内。线圈包括：基底１、线圈槽２、线圈引线通孔３、绝缘层４、种…… |
| 资助项目 | 1258199 |
| 申请号 | 200310115908.9 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/11364 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张平,吴一辉,杨杰伟,等. 深刻蚀平面电磁线圈及制作方法 (发明)[P]. 2006-05-31. |
| 条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| CN200400154722600000（543KB） | 开放获取 | -- | 浏览 下载 | |||
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| 谷歌学术 |
| 谷歌学术中相似的文章 |
| [张平]的文章 |
| [吴一辉]的文章 |
| [杨杰伟]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [张平]的文章 |
| [吴一辉]的文章 |
| [杨杰伟]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [张平]的文章 |
| [吴一辉]的文章 |
| [杨杰伟]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论