CIOMP OpenIR  > 中科院长春光机所知识产出
一种制备光刻胶图形的方法 (发明)
宁永强; 秦莉; 孙艳芳; 李特; 崔锦江; 刘云; 刘星元; 王立军
2008-04-02
专利权人中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
公开日期2012-08-29
专利类型发明专利
摘要本发明属于微电子和光电子器件领域,涉及器件制作工艺过程中采用光刻进行器件图形转移的制备技术。该方法采用一种正性光刻胶,按照光刻工艺通常的方法,先在样品表面上旋涂第一层光刻胶,其特征是前烘后不用光刻版掩蔽即进行大面积曝光。然后在已经大面积曝光的第一层光刻胶表面旋涂第二层光刻胶,前烘后用光刻版进行图形掩蔽后曝光。曝光后进行……
资助项目101154049
申请号200610017221.5
文献类型专利
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/11301
专题中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
宁永强,秦莉,孙艳芳,等. 一种制备光刻胶图形的方法 (发明)[P]. 2008-04-02.
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